Self-limiting Oxygen Vacancy formation into Anatase-TiO2 Films by Trimethylaluminium
46th IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference. 2015年12月02日-2015年12月05日.
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作成時刻: 2017-01-08 04:40:27 +0900 更新時刻: 2017-07-10 22:13:42 +0900