HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Self-limiting Oxygen Vacancy formation into Anatase-TiO2 Films by Trimethylaluminium山本 逸平, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 大井 暁彦, 栗島 一徳, ダオ デュイ タン, 長尾 忠昭, 知京 豊裕, 小椋厚志, 大石知司. 46th IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference. 2015.NIMS著者生田目 俊秀大井 暁彦長尾 忠昭知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:40:27 +0900更新時刻: 2017-07-10 22:13:42 +0900