ルチル型TiO2界面層がHfO2/GeMOS構造に与える影響
(Effects of Rutile TiO2 Interlayer on HfO2/Ge MOS Structure)
SSDM 2013. 2013.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 04:46:37 +0900更新時刻: 2017-07-10 21:42:57 +0900