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著者名陳 君, 関口 隆史, 深田 直樹, 高瀬 雅美, 根本 善弘, 蓮沼隆, 山部紀久夫, 佐藤基之, 山田啓作, 知京 豊裕.
タイトルEBICとTEMによる絶縁膜破壊したHigh-kゲートスタック構造の観察
(EBIC and TEM observation of physical damages induced by dielectric breakdown in high-k gate stacks)
会議名2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会
発表年2010
言語Japanese
外部での文献参照

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