HOME > 口頭発表 > 書誌詳細EBICとTEMによる絶縁膜破壊したHigh-kゲートスタック構造の観察(EBIC and TEM observation of physical damages induced by dielectric breakdown in high-k gate stacks)陳 君, 関口 隆史, 深田 直樹, 高瀬 雅美, 根本 善弘, 蓮沼隆, 山部紀久夫, 佐藤基之, 山田啓作, 知京 豊裕. 2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会. 2010.NIMS著者陳 君深田 直樹根本 善弘知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:19:10 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:44:53 +0900