HOME > Presentation > DetailEBICとTEMによる絶縁膜破壊したHigh-kゲートスタック構造の観察(EBIC and TEM observation of physical damages induced by dielectric breakdown in high-k gate stacks)陳 君, 関口 隆史, 深田 直樹, 高瀬 雅美, 根本 善弘, 蓮沼隆, 山部紀久夫, 佐藤基之, 山田啓作, 知京 豊裕. 2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会. 2010.NIMS author(s)CHEN, JunFUKATA, NaokiNEMOTO, YoshihiroCHIKYO, ToyohiroFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-01-08 04:19:10 +0900Updated at: 2017-07-10 20:44:53 +0900