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ZrO2シード層がHfxZr1-xO2薄膜の強誘電性へ及ぼす効果
(Effect of ZrO2 seed layer on ferroelectricity of HfxZr1-xO2 thin film)
シリコン材料・デバイス研究会-プロセス科学と新プロセス技術-. October 25, 2017-October 26, 2017.
NIMS author(s)
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Fulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)
Created at: 2017-08-22 22:07:25 +0900 Updated at: 2018-06-05 14:11:49 +0900