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ZrO2シード層がHfxZr1-xO2薄膜の強誘電性へ及ぼす効果
(Effect of ZrO2 seed layer on ferroelectricity of HfxZr1-xO2 thin film)

シリコン材料・デバイス研究会-プロセス科学と新プロセス技術-. 2017.

NIMS著者


Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


    作成時刻 :2017-08-22 22:07:25 +0900 更新時刻 :2018-06-05 14:11:49 +0900

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