HOME > 口頭発表 > 書誌詳細ZrO2シード層がHfxZr1-xO2薄膜の強誘電性へ及ぼす効果(Effect of ZrO2 seed layer on ferroelectricity of HfxZr1-xO2 thin film)女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 知京 豊裕, 小椋厚志. シリコン材料・デバイス研究会-プロセス科学と新プロセス技術-. 2017.NIMS著者生田目 俊秀大井 暁彦池田 直樹知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2017-08-22 22:07:25 +0900 更新時刻 :2018-06-05 14:11:49 +0900