ZrO2シード層がHfxZr1-xO2薄膜の強誘電性へ及ぼす効果
(Effect of ZrO2 seed layer on ferroelectricity of HfxZr1-xO2 thin film)
シリコン材料・デバイス研究会-プロセス科学と新プロセス技術-. 2017年10月25日-2017年10月26日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-08-22 22:07:25 +0900 更新時刻: 2018-06-05 14:11:49 +0900