HOME > 口頭発表 > 書誌詳細酸化アルミニウム系ReRAMデバイスの作製2(Fabrication of aluminum oxide based ReRAM devices 2)原田 善之, 大井 暁彦, 児子 精祐, 加藤 誠一, 北澤 英明, 生田目 俊秀, 木戸 義勇. 第72回応用物理学会学術講演会. 2011.NIMS著者大井 暁彦加藤 誠一北澤 英明生田目 俊秀Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:48:22 +0900更新時刻: 2017-07-10 21:09:54 +0900