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酸化アルミニウム系ReRAMデバイスの作製2
(Fabrication of aluminum oxide based ReRAM devices 2)

著者原田 善之, 大井 暁彦, 児子 精祐, 加藤 誠一, 北澤 英明, 生田目 俊秀, 木戸 義勇.
会議名第72回応用物理学会学術講演会
発表年2011
言語Japanese

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