HOME > 口頭発表 > 詳細酸化アルミニウム系ReRAMデバイスの作製２(Fabrication of aluminum oxide based ReRAM devices 2)著者原田 善之, 大井 暁彦, 児子 精祐, 加藤 誠一, 北澤 英明, 生田目 俊秀, 木戸 義勇. 会議名第72回応用物理学会学術講演会発表年2011言語Japanese
