HOME > 口頭発表 > 書誌詳細CVD成膜したダイヤモンド上に作製したh-BNゲート絶縁体を用いた電界効果トランジスタ(Field-effect transistor fabricated on a CVD-grown diamond with a h-BN gate insulator)笹間 陽介, 岩崎 拓哉, 井村 将隆, 渡邊 賢司, 谷口 尚, 山口 尚秀. 2024年第71回応用物理学会春季学術講演会. 2024年03月22日-2024年03月25日.NIMS著者笹間 陽介岩崎 拓哉井村 将隆渡邊 賢司谷口 尚山口 尚秀Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2024-04-02 03:14:39 +0900更新時刻: 2024-04-02 03:14:39 +0900