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著者名Tomomi Sawada, Toshihide Nabatame, Thang Duy Dao, Ippei Yamamoto, Kazunori Kurishima, Takashi Onaya, Akihiko Ohi, Kazuhiro Ito, Makoto Takahashi, Kazuyuki Kohama, Tomoji Ohishi, Atsushi Ogura, Tadaaki Nagao.
タイトルImprovement of smooth surface of RuO2 bottom electrode on Al2O3 buffer layer and characteristics of RuO2/TiO2/Al2O3/TiO2/RuO2 capacitors
掲載誌名Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 35 6 061503
ISSN: 15208559 07342101
発表年2017
言語English
DOI10.1116/1.4998425
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