Improvement of smooth surface of RuO2 bottom electrode on Al2O3 buffer layer and characteristics of RuO2/TiO2/Al2O3/TiO2/RuO2 capacitors
(plasma-enhanced atomic layer deposition法によるRuO2下部電極の表面平滑性の改善及びRuO2/TiO2/Al2O3/TiO2/RuO2キャパシタの特性)

著者	Tomomi Sawada, Toshihide Nabatame, Thang Duy Dao, Ippei Yamamoto, Kazunori Kurishima, Takashi Onaya, Akihiko Ohi, Kazuhiro Ito, Makoto Takahashi, Kazuyuki Kohama, Tomoji Ohishi, Atsushi Ogura, Tadaaki Nagao.
掲載誌名	Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 35 [6] 061503 ISSN: 07342101, 15208559 ESIでのカテゴリ: MATERIALS SCIENCE
出版社	American Vacuum Society
発表年	2017
言語	English
DOI	https://doi.org/10.1116/1.4998425
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