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Improvement of smooth surface of RuO2 bottom electrode on Al2O3 buffer layer and characteristics of RuO2/TiO2/Al2O3/TiO2/RuO2 capacitors
(plasma-enhanced atomic layer deposition法によるRuO2下部電極の表面平滑性の改善及びRuO2/TiO2/Al2O3/TiO2/RuO2キャパシタの特性)

Tomomi Sawada, Toshihide Nabatame, Thang Duy Dao, Ippei Yamamoto, Kazunori Kurishima, Takashi Onaya, Akihiko Ohi, Kazuhiro Ito, Makoto Takahashi, Kazuyuki Kohama, Tomoji Ohishi, Atsushi Ogura, Tadaaki Nagao.

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    作成時刻: 2017-12-12 20:24:06 +0900更新時刻: 2024-07-03 04:23:18 +0900

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