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極低角度入射ビームオージェ深さ方向分析によるHfO2/Si基板の分析
(Auger Depth Profiling Analysis of HfO2/Si Specimen Using an Ultra Low Angle Incidence Ion Beam)

著者荻原 俊弥, 長田 貴弘, 吉川 英樹.
掲載誌名JOURNAL OF SURFACE ANALYSIS 24 [3] 192-205
ISSN: 13478400, 13411756
出版社一般社団法人 表面分析研究会
発表年2018
言語Japanese
DOIhttps://doi.org/10.1384/jsa.24.192
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