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著者名Toshihide Nabatame, Ippei Yamamoto, Tomomi Sawada, Akihiko Ohi, Thang Duy Dao, Tomoji Ohishi, Tadaaki Nagao.
タイトルChange of Electrical Properties of Rutile- and Anatase-TiO2 Films by Atomic Layer Deposited Al2O3
掲載誌名ECS Transactions 92 3 15 21
発表年2019
言語English
DOI10.1149/09203.0015ecst
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