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著者名Takahiro Nagata, Kazuyoshi Kobashi, Yoshiyuki Yamashita, Hideki Yoshikawa, Chinnamuthu Paulsamy, Yoshihisa Suzuki, Toshihide Nabatame, Atsushi Ogura, Toyohiro Chikyow.
タイトルGe incorporated epitaxy of (110) rutile TiO2 on (100) Ge single crystal at low temperature by pulsed laser deposition
掲載誌名Thin Solid Films 591 105-110
ISSN: 00406090
発表年2015
言語English
ESIでのカテゴリMATERIALS SCIENCE
DOIhttps://doi.org/10.1016/j.tsf.2015.08.031
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