Homoepitaxial diamond chemical vapor deposition for ultra-light doping
著者 | T. Teraji, J. Isoya, K. Watanabe, S. Koizumi, Y. Koide. |
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発表誌名 | MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING |
発表年 | 2017 |
言語 | English |
DOI | https://doi.org/10.1016/j.mssp.2016.11.012 |
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公開範囲 | インターネット公開 |
作成時刻 / 更新時刻 | 2017-08-17 21:46:58 +0900 / 2017-08-17 21:46:58 +0900 |