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Homoepitaxial diamond chemical vapor deposition for ultra-light doping

著者T. Teraji, J. Isoya, K. Watanabe, S. Koizumi, Y. Koide.
発表誌名MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING
発表年2017
言語English
DOIhttps://doi.org/10.1016/j.mssp.2016.11.012

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