Homoepitaxial diamond chemical vapor deposition for ultra-light doping

著者	T. Teraji, J. Isoya, K. Watanabe, S. Koizumi, Y. Koide.
発表誌名	MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING
発表年	2017
言語	English
DOI	https://doi.org/10.1016/j.mssp.2016.11.012
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公開範囲	インターネット公開
作成時刻 / 更新時刻	2017-08-17 21:46:58 +0900 / 2017-08-17 21:46:58 +0900