高n型Geのエピタキシャル成長中におけるSbの再分布
| 著者 | Rahmat Hadi Saputro, Ryo Matsumura, Naoki Fukata. |
|---|---|
| 発表誌名 | 電子デバイス界面テクノロジー研究会 –材料・プロセス・デバイス特性の物理–プロシーディング集 |
| 発表年 | 2022 |
| 言語 | Japanese |
| 著者 | Rahmat Hadi Saputro, Ryo Matsumura, Naoki Fukata. |
|---|---|
| 発表誌名 | 電子デバイス界面テクノロジー研究会 –材料・プロセス・デバイス特性の物理–プロシーディング集 |
| 発表年 | 2022 |
| 言語 | Japanese |