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Mechanism of Vfb shift in HfO2 gate stack by Al diffusion from (TaC)1-xAlx gate electrode
((TaC)1-xAlx電極からのAl拡散によるHfO2ゲートスタックにおけるVfbシフトのメカニズム)

NABATAME, Toshihide, KIMURA, Masayuki, YAMADA, Hiroyuki, OHI, Akihiko, CHIKYOW, Toyohiro, Tomoji Ohishi.
ECS TRANSACTIONS 49-59. 2012.

NIMS著者


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    作成時刻 :2017-02-27 02:09:00 +0900 更新時刻 :2017-03-17 04:17:00 +0900

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