HOME > 会議録 > 書誌詳細Concentration profiles in silica glass implanted by Zn ions for nanoparticle formation(SiO2中のイオン注入Znナノ粒子の光学的・熱的特性)AMEKURA, Hiroshi, Oleg, Plaxine, TAKEDA, Yoshihiko, KONO, Kenichiro, KISHIMOTO, Naoki, Ch. Buchal. Proc. of 8th Int. Symp. Sputtering & Plasma Processes 216-219. 2005.NIMS著者雨倉 宏武田 良彦河野 健一郎岸本 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-27 00:44:53 +0900更新時刻: 2017-03-17 02:45:48 +0900