HOME > Presentation > Detailイオン注入によるSiナノワイヤへの不純物ドーピング(Impurity doping in Si nanowires by ion-implantation)深田 直樹, 齋藤直之, 石田 慎哉, 横野茂輝, 陳 君, 関口 隆史, 菱田 俊一, 村上浩一. 2010年春季 第57回 応用物理学関係連合講演会. 2010.NIMS author(s)FUKATA, NaokiCHEN, JunHISHITA, ShunichiFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-02-14 11:27:44 +0900Updated at: 2017-07-10 20:42:28 +0900