HOME > 口頭発表 > 書誌詳細SiナノワイヤへのO2+イオン注入効果(Effect of O2+ ion implantation in Si nanowires)横野茂輝, 石田慎哉, 滝口亮, 深田 直樹, 陳 君, 関口 隆史, 菱田 俊一, 村上浩一. 2010年秋季 第71回 応用物理学会学術講演会. 2010.NIMS著者深田 直樹陳 君菱田 俊一Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:36:11 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:53:23 +0900