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ゲートラストhigh-k CMOSプロセスにおけるゲート絶縁膜としてのALD-(Ta/Nb)ON膜の開発
(Developments of ALD-(Ta/Nb)ON films as gate insulator for gate-last high-k CMOS process)

生田目 俊秀, 山田 博之, 木村 将之, 大井 暁彦, 大石知司, 知京 豊裕.
13th International Conference on Atomic Layer Deposition. 2013.

NIMS著者


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    作成時刻 :2017-02-14 11:31:25 +0900 更新時刻 :2017-07-10 21:35:46 +0900

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