HOME > 口頭発表 > 書誌詳細ゲートラストhigh-k CMOSプロセスにおけるゲート絶縁膜としてのALD-(Ta/Nb)ON膜の開発(Developments of ALD-(Ta/Nb)ON films as gate insulator for gate-last high-k CMOS process)生田目 俊秀, 山田 博之, 木村 将之, 大井 暁彦, 大石知司, 知京 豊裕. 13th International Conference on Atomic Layer Deposition. 2013.NIMS著者生田目 俊秀大井 暁彦知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2017-02-14 11:31:25 +0900 更新時刻 :2017-07-10 21:35:46 +0900