HOME > 口頭発表 > 書誌詳細PE-ALD法で作製した極薄膜Al2O3ゲート絶縁膜を用いたGIZO TFTの電気特性(Electrical properties of GIZO TFT with ultrathin Al2O3 insulators by PE-ALD method)栗島 一徳, 生田目 俊秀, 塚越 一仁, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志. シリコン材料・デバイス研究会 (SDM) . 2015-06-19.NIMS著者生田目 俊秀塚越 一仁大井 暁彦知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 03:34:09 +0900 更新時刻: 2017-07-10 22:08:11 +0900