HOME > 口頭発表 > 書誌詳細(Bias-application in hard x-ray photoelectron spectroscopy for characterization of advanced materials)山下 良之, 吉川 英樹, 上田 茂典, 知京 豊裕, 小林 啓介. 5th international symposium on practical surface analysis. 2010.NIMS著者山下 良之吉川 英樹上田 茂典知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:21:27 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:55:13 +0900