HOME > 口頭発表 > 書誌詳細(Bias-application in hard x-ray photoelectron spectroscopy for characterization of advanced materials)山下 良之, 吉川 英樹, 上田 茂典, 知京 豊裕, 小林 啓介. 5th international symposium on practical surface analysis. 2010年10月03日-2010年10月07日.NIMS著者山下 良之吉川 英樹上田 茂典知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 11:21:27 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:55:13 +0900