HOME > 口頭発表 > 書誌詳細オキシクロライドCVDによるMoS2成膜過程へのO2添加効果(Effect of O2 adding to MoS2 growth process by Oxychloride CVD)佐久間 芳樹, 楊 旭, 李 世勝, 池田 直樹. 第82回応用物理学会秋季学術講演会. 2021.NIMS著者佐久間 芳樹李 世勝池田 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2022-01-06 03:26:50 +0900更新時刻: 2022-01-06 03:26:50 +0900