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オキシクロライドCVDによるMoS2成膜過程へのO2添加効果
(Effect of O2 adding to MoS2 growth process by Oxychloride CVD)

著者佐久間 芳樹, 楊 旭, 李 世勝, 池田 直樹.
会議名第82回応用物理学会秋季学術講演会
発表年2021
言語Japanese

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