HOME > Presentation > DetailオキシクロライドCVDによるMoS2成膜過程へのO2添加効果(Effect of O2 adding to MoS2 growth process by Oxychloride CVD)佐久間 芳樹, 楊 旭, 李 世勝, 池田 直樹. 第82回応用物理学会秋季学術講演会. 2021.NIMS author(s)SAKUMA, YoshikiLI, ShishengIKEDA, NaokiFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2022-01-06 03:26:50 +0900Updated at: 2022-01-06 03:26:50 +0900