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イオン注入によるSiナノワイヤへの不純物ドーピングと電気的活性化
(Impurity doping in Si nanowires by ion-implantation and electrical activation of implanted impurities)

深田 直樹, 齋藤直之, 石田 慎哉, 横野茂輝, 陳 君, 関口 隆史, 菱田 俊一, 村上浩一.
2009年秋季 第70回 応用物理学会 学術講演会. 2009.

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    作成時刻: 2017-02-14 11:03:30 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:36:22 +0900

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