HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Development of fluoride based high-k dielectric thin film for GaN MIS capacitor長田 貴弘, 上田 茂典, 山下 良之, 松田 朝彦, 知京 豊裕. 2017 IWDTF. 2017年11月20日-2017年11月22日.NIMS著者長田 貴弘上田 茂典山下 良之松田 朝彦知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-09-20 22:29:48 +0900更新時刻: 2018-06-05 14:13:10 +0900
