HfO2ゲート絶縁膜中の酸素がフラットバンド電圧シフトへ及ぼす影響
(Effect of oxygen in HfO2 gate insulator film on Vfb shift )
日本金属学会2010年度春期大会. 2010.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 05:42:02 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:41:44 +0900