HOME > 口頭発表 > 書誌詳細PE-ALD法による、SiO2, Al2O3 ,そしてTiO2基板上でのRuO2膜の成長(Growth of RuO2 films on SiO2, Al2O3 and TiO2 layers by plasma-enhanced ALD)澤田 朋実, 生田目 俊秀, ダオ デュイ タン, 山本 逸平, 栗島 一徳, 大井 暁彦, 大石知司, 小椋厚志, 長尾 忠昭. ALD2015 15th International Conference on Atomic Layer Deposition. 2015.NIMS著者生田目 俊秀大井 暁彦長尾 忠昭Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 10:58:15 +0900更新時刻: 2017-07-10 22:06:34 +0900