PE-ALD法による、SiO2, Al2O3 ,そしてTiO2基板上でのRuO2膜の成長
(Growth of RuO2 films on SiO2, Al2O3 and TiO2 layers by plasma-enhanced ALD)
ALD2015 15th International Conference on Atomic Layer Deposition. 2015年06月28日-2015年07月01日.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-14 10:58:15 +0900 更新時刻: 2017-07-10 22:06:34 +0900