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著者名SAWADA, Tomomi, NABATAME, Toshihide, DAO, Duy Thang, YAMAMOTO, Ippei, KURISHIMA, Kazunori, OHI, Akihiko, OHISHI Tomojoi, OGURA Atsushi, NAGAO, Tadaaki.
タイトルGrowth of RuO2 films on SiO2, Al2O3 and TiO2 layers by plasma-enhanced ALD
(PE-ALD法による、SiO2, Al2O3 ,そしてTiO2基板上でのRuO2膜の成長)
会議名ALD2015 15th International Conference on Atomic Layer Deposition
発表年2015
言語English
外部での文献参照

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