HOME > 口頭発表 > 書誌詳細(BIAS APPLICATION HX-PES STUDY OF METAL/OXIDE INTERFACE: OXIDE BASED RERAM APPLICATION)長田 貴弘, 山下 良之, 吉川 英樹, 南風盛 将光, 小林 啓介, 知京 豊裕. HAXPES 2011 - 4th International Workshop on Hard X-ray Photoelec. 2011年09月14日-2011年09月16日.NIMS著者長田 貴弘山下 良之吉川 英樹知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 03:46:05 +0900 更新時刻: 2017-07-10 21:08:50 +0900