HOME > 口頭発表 > 書誌詳細ReS2/SiO2とReS2/hBN 電界効果トランジスタの電荷トラップとヒストリシス特性(Charge Trapping and Hysteresis Behavior in ReS2/SiO2 and ReS2/hBN Field-Effect Transistors)ビン ズルケフリ モハメド アミール, マッカージー バブル, 渡邊 賢司, 谷口 尚, 若山 裕, 中払 周. The 79th JSAP Autumn Meeting 2018. 2018年09月18日-2018年09月21日.NIMS著者渡邊 賢司谷口 尚若山 裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2018-07-14 16:06:35 +0900 更新時刻: 2018-07-14 16:06:35 +0900