HOME > Presentation > DetailReS2/SiO2とReS2/hBN 電界効果トランジスタの電荷トラップとヒストリシス特性(Charge Trapping and Hysteresis Behavior in ReS2/SiO2 and ReS2/hBN Field-Effect Transistors)ビン ズルケフリ モハメド アミール, マッカージー バブル, 渡邊 賢司, 谷口 尚, 若山 裕, 中払 周. The 79th JSAP Autumn Meeting 2018. 2018.NIMS author(s)BIN ZULKEFLI, Mohd AmirWATANABE, KenjiTANIGUCHI, TakashiWAKAYAMA, YutakaFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2018-07-14 16:06:35 +0900Updated at: 2018-07-14 16:06:35 +0900