HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Scalable growth of atomically-thin MoS2 layers in conventional MOCVD system using molybdenum oxychloride as the molybdenum sourceYANG, Xu, LI, Shisheng, OHTAKE, Akihiro, SAKUMA, Yoshiki. ICCGE-20. 2023年07月30日-2023年08月04日.NIMS著者李 世勝大竹 晃浩佐久間 芳樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2023-09-06 04:00:05 +0900更新時刻: 2023-09-06 04:00:05 +0900