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著者名横野茂輝, 瀬岡雅典, 齋藤直之, 石田慎哉, 深田 直樹, 陳 君, 関口 隆史, 菱田 俊一, 村上浩一.
タイトルO2+およびAr+イオン注入後のSiナノワイヤ内部の結晶性回復過程
(Re-crystallization process in SiNWs implanted with O2+ and Ar+ ions)
会議名春季第56回応用物理学会学術講演会
発表年2009
言語Japanese
外部での文献参照

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