O2+およびAr+イオン注入後のSiナノワイヤ内部の結晶性回復過程
(Re-crystallization process in SiNWs implanted with O2+ and Ar+ ions)
春季第56回応用物理学会学術講演会. 2009.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 05:44:53 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:28:55 +0900