HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Characteristic of flexible ReRAM with Al2O3/TiO2 active layer by ALD and PDA process at low temperatureNABATAME, Toshihide, 大石知司, INOUE, Mari, 高橋 誠, 伊藤和博, IKEDA, Naoki, OHI, Akihiko. PRime2020. 2020.NIMS著者生田目 俊秀池田 直樹大井 暁彦Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2020-10-17 03:00:20 +0900更新時刻: 2020-10-17 03:00:20 +0900
