Siナノワイヤ中に単独ドープしたPおよびBの熱酸化過程での偏析挙動
(Segregation of P and B in Si nanowires during thermal oxidation)
春季第55回応用物理学会学術講演会. 2008.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 03:17:51 +0900更新時刻: 2017-07-10 20:09:02 +0900