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著者名深田 直樹, 松下聡, 瀬岡雅典, 陳 君, 関口 隆史, 村上浩一.
タイトルSiナノワイヤ中に単独ドープしたPおよびBの熱酸化過程での偏析挙動
(Segregation of P and B in Si nanowires during thermal oxidation)
会議名春季第55回応用物理学会学術講演会
発表年2008
言語Japanese
外部での文献参照

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