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バブルフリー転写法による高品質グラフェン/hBN素子の作製
(Fabrication of high-quality graphene/hBN devices by the bubble-free transfer technique)

著者岩崎 拓哉, 遠藤 滉亮, 渡辺 英一郎, 津谷 大樹, 守田 佳史, 中払 周, 野口 裕, 若山 裕, 渡邊 賢司, 谷口 尚, 森山 悟士.
会議名第67回応用物理学会春季学術講演会
発表年2020
言語Japanese

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