HOME > 口頭発表 > 書誌詳細バブルフリー転写法による高品質グラフェン/hBN素子の作製(Fabrication of high-quality graphene/hBN devices by the bubble-free transfer technique)岩崎 拓哉, 遠藤 滉亮, 渡辺 英一郎, 津谷 大樹, 守田 佳史, 中払 周, 野口 裕, 若山 裕, 渡邊 賢司, 谷口 尚, 森山 悟士. 第67回応用物理学会春季学術講演会. 2020年03月12日-2020年03月15日.NIMS著者岩崎 拓哉渡辺 英一郎津谷 大樹若山 裕渡邊 賢司谷口 尚Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2020-04-25 03:00:19 +0900更新時刻: 2020-04-25 03:00:19 +0900