HfO2系強誘電体デバイスの電界誘起界面反応に起因したエンデュランス劣化現象の抑制に寄与する重要因子に関する考察
(Consideration of critical factors for suppressing endurance degradation caused by electric-field-induced interface reactions in HfO2-based ferroelectric devices)
2026年 第87回応用物理学会秋季学術講演会. 2026年09月08日-2026年09月11日.
NIMS著者
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作成時刻: 2026-09-15 03:06:50 +0900 更新時刻: 2026-09-15 03:06:50 +0900