HOME > 口頭発表 > 詳細ZrO2シード層による強誘電体HfxZr1−xO2薄膜形成(Formation of ferroelectric HfxZr1−xO2 thin films using ZrO2-seed layer)著者生田目 俊秀, 女屋 崇, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 小椋厚志. 会議名2018年 第79回応用物理学会秋季学術講演会発表年2018言語Japanese
