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ZrO2シード層による強誘電体HfxZr1−xO2薄膜形成
(Formation of ferroelectric HfxZr1−xO2 thin films using ZrO2-seed layer)

生田目 俊秀, 女屋 崇, 澤本直美, 大井 暁彦, 池田 直樹, 小椋厚志.
2018年 第79回応用物理学会秋季学術講演会. 2018年09月18日-2018年09月21日. 招待講演

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    作成時刻: 2018-06-28 16:44:29 +0900更新時刻: 2024-03-05 12:20:41 +0900

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