二段階プロセスによるY2O3薄膜の堆積とそのハロゲンプラズマ耐性
(Y2O3 Thin Film Deposited by Two-step Process and Its Resistance to Halogen Plasma)
2009年春季 第56回応用物理学関係連合講演会. 2009.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-02-14 10:57:00 +0900更新時刻: 2018-06-05 12:27:59 +0900