HOME > Presentation > Detail二段階プロセスによるY2O3薄膜の堆積とそのハロゲンプラズマ耐性(Y2O3 Thin Film Deposited by Two-step Process and Its Resistance to Halogen Plasma)石井 真史, 池田 直樹, 津谷 大樹, 櫻井 健次. 2009年春季 第56回応用物理学関係連合講演会. 2009.NIMS author(s)ISHII, MasashiIKEDA, NaokiTSUYA, DaijuFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-02-14 10:57:00 +0900Updated at: 2018-06-05 12:27:59 +0900