Crystallization of n-type Si0.1Ge0.9 thin films by high-speed CW laser annealing
(高速 CW レーザアニル によ る n型 Si0.1Ge0.9薄膜の結晶成長)
第84回応用物理学会秋季学術講演会. 2023年09月19日-2023年09月23日.
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2024-01-09 03:11:16 +0900更新時刻: 2024-01-09 03:11:16 +0900