HOME > Presentation > Detail4H-SiC(0001)/SiO2 界面での欠陥準位の分布の第一原理解析(First-pricnples analysis on defect level distribution at 4H-SiC(0001)/SiO2)金子 智昭, 山崎 隆浩, 田島 暢夫, 奈良 純, 清水達雄, 加藤弘一, 大野 隆央. 応用物理学会春季学術講演会. 2016.NIMS author(s)NARA, JunFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-01-08 04:00:38 +0900Updated at: 2017-07-10 22:32:51 +0900