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著者名SAKUMA, Yoshiki, IKEDA, Naoki, MANO, Takaaki, OHTAKE, Akihiro.
タイトルScalable growth of high-quality MoS2 and WS2 atomic layers using oxychloride sources in MOCVD reactor
会議名ICMOVPE-XIX
発表年2018
言語English
外部での文献参照

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