Scalable growth of high-quality MoS2 and WS2 atomic layers using oxychloride sources in MOCVD reactor
ICMOVPE-XIX. 2018年06月03日-2018年06月08日.
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作成時刻: 2018-06-28 16:44:26 +0900 更新時刻: 2018-06-28 16:44:26 +0900