HOME > 口頭発表 > 書誌詳細WOCl4をプリカーサに用いたWS2単層膜のガス原料CVD(Gas source CVD of WS2 monolayer using WOCl4 as precursor)佐久間 芳樹, 池田 直樹, 大竹 晃浩, 間野 高明. 第79回応用物理学会秋季学術講演会. 2018年09月18日-2018年09月21日.NIMS著者佐久間 芳樹池田 直樹大竹 晃浩間野 高明Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2018-06-28 16:44:27 +0900更新時刻: 2018-06-28 16:44:27 +0900