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著者名深田 直樹, 大島崇, 岡田直也, 松下聡, 鶴井隆雄, 陳 君, 関口 隆史, 村上浩一.
タイトルSiナノ細線への熱酸化応力誘起とフォノン閉じ込め効果
(Introduction of stress and phonon confinement in thermally oxidized silicon nanowires)
会議名第127回結晶工学分科会研究会「IV族系半導体のひずみエンジニアリン
発表年2007
言語Japanese
外部での文献参照

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