Siナノ細線への熱酸化応力誘起とフォノン閉じ込め効果
(Introduction of stress and phonon confinement in thermally oxidized silicon nanowires)
第127回結晶工学分科会研究会「IV族系半導体のひずみエンジニアリン. 2007. 招待講演
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作成時刻: 2017-01-08 05:36:43 +0900更新時刻: 2024-03-05 11:41:26 +0900