HOME > 口頭発表 > 書誌詳細イオン注入シリコンナノワイヤの再結晶化とドーパンント原子の電気的活性化(Recrystallization and reactivation of dopant atoms in ion-implanted silicon nanowires)深田 直樹, 神永 惇, 関口 隆史, 菱田 俊一, 村上浩一. ICDS27. 2013. 招待講演NIMS著者深田 直樹菱田 俊一Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-01-08 04:35:28 +0900更新時刻: 2024-03-05 11:44:35 +0900