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イオン注入シリコンナノワイヤの再結晶化とドーパンント原子の電気的活性化
(Recrystallization and reactivation of dopant atoms in ion-implanted silicon nanowires)

深田 直樹, 神永 惇, 関口 隆史, 菱田 俊一, 村上浩一.
ICDS27. 2013年07月22日-2013年07月26日. 招待講演

NIMS著者


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    作成時刻: 2017-01-08 04:35:28 +0900 更新時刻: 2024-03-05 11:44:35 +0900

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