HOME > Presentation > DetailSiナノワイヤへのホットインプランテーションによるPドーピング(Phosphorus doping in silicon nanowires by hot-implantation)石田慎哉, 滝口亮, 横野茂輝, 鈴木慶太郎, 深田 直樹, 菱田 俊一, 関口 隆史, 村上浩一. 秋季第72回応用物理学会学術講演会. 2011.NIMS author(s)FUKATA, NaokiHISHITA, ShunichiFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-01-08 03:33:23 +0900Updated at: 2017-07-10 21:08:30 +0900