HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Study on interface structure of CeF3/Ge stack structure by hard x-ray photoelectron spectroscopy長田 貴弘, 上田 茂典, 松田 朝彦, 山下 良之, 知京 豊裕. 7th International Conference on Hard X-Ray Photoelectron Spectro. 2017年09月11日-2017年09月15日.NIMS著者長田 貴弘上田 茂典松田 朝彦山下 良之知京 豊裕Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-07-20 22:31:47 +0900更新時刻: 2018-06-05 14:10:51 +0900