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著者名YAMASHITA, Yoshiyuki, YOSHIKAWA, Hideki, KOBAYASHI, Keisuke, OHMORI, Kenji, CHIKYOW, Toyohiro.
タイトルElectronic States of Metal-gate/High-K and oxide/Si interfaces obtained from X-ray emission and hard X-ray photoelectron spectroscopy
(X線発光および硬X線光電子分光による金属/High-k、酸化膜/Si界面電子状態の観測)
会議名The 5th NIMS-MPI Work Shop
発表年2007
言語English
外部での文献参照

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