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著者名YAMASHITA, Yoshiyuki, YOSHIKAWA, Hideki, CHIKYOW, Toyohiro.
タイトルDirect observation of bias-dependence potential distribution in metal/HfO2 gate stack structures by operando hard x-ray photoelectron spectroscopy
会議名The 8th International Symposium on Surface Science
発表年2017
言語English
外部での文献参照

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