HOME > 口頭発表 > 詳細ZrO2/high-k/ZrO2多層絶縁膜を用いたDRAMキャパシタにおけるhigh-k層間絶縁層の役割(Role of high-k interlayer on characteristics for DRAM capacitors with ZrO2/high-k/ZrO2 insulating multilayer)著者女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 栗島 一徳, 澤本直美, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志. 会議名第77回応用物理学会秋季学術講演会発表年2016言語Japanese
