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ZrO2/high-k/ZrO2多層絶縁膜を用いたDRAMキャパシタにおけるhigh-k層間絶縁層の役割
(Role of high-k interlayer on characteristics for DRAM capacitors with ZrO2/high-k/ZrO2 insulating multilayer)

女屋 崇, 生田目 俊秀, 澤田 朋実, 栗島 一徳, 澤本直美, 大井 暁彦, 知京 豊裕, 小椋厚志.
第77回応用物理学会秋季学術講演会. 2016年09月13日-2016年09月16日.

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    作成時刻: 2017-01-08 04:01:19 +0900更新時刻: 2017-07-10 22:26:41 +0900

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