ZrO2/high-k/ZrO2多層絶縁膜を用いたDRAMキャパシタにおけるhigh-k層間絶縁層の役割
(Role of high-k interlayer on characteristics for DRAM capacitors with ZrO2/high-k/ZrO2 insulating multilayer)
第77回応用物理学会秋季学術講演会. 2016.
NIMS著者
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作成時刻: 2017-01-08 04:01:19 +0900更新時刻: 2017-07-10 22:26:41 +0900