プラズマ原子層堆積法で300 °C低温形成した強誘電体HfxZr1−xO2薄膜の疲労特性
(Endurance property of low-temperature (300 °C)-fabricated ferroelectric HfxZr1−xO2 thin films using plasma-enhanced atomic layer deposition)
第67回応用物理学会春季学術講演会. 2020.
NIMS著者
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作成時刻: 2020-03-18 03:00:19 +0900更新時刻: 2020-03-18 03:00:19 +0900